TALD系列原子層沉積系統(tǒng)是專門為先進半導體工藝開發(fā)的薄膜沉積系統(tǒng)，已在國內高校和科研院所裝機超百臺。以優(yōu)良的品質，極高的可靠性，超長的使用壽命受到客戶的認可，產品性能和售后服務得到用戶一致好評。
    獲取詳細的系統(tǒng)技術規(guī)格，請與我公司銷售部門聯(lián)系。

關鍵詞: 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)

產品附件：

立即咨詢

如果您對我們的產品感興趣，請留下您的電子郵件，我們將盡快與您聯(lián)系，謝謝！

提交留言